光學校正板生成方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101105295

專利證號

I 435049

專利獲證名稱

光學校正板生成方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2014/04/21

技術說明

Zero reference signal(ZRS)運用在精密工程中精準測量坐標，用來表示二維座標位置。若是沒有繞射效應，ZRS可以藉由兩個相同的二維zero reference codes(ZRCs)之間的光學相關性來獲得，這個方法被稱為自相關近似(autocorrelation approximation approach)，然而對於需求超高解析度的光柵系統，ZRCs的大小必須降低，此時繞射效應就變得相當重要且不能被忽視，而也就無法運用自相關近似法來獲得ZRC。 因此，在高解析度光柵系統中，擾射效應對於ZRCs的設計帶來許多的限制，為了降低繞射對於二維ZRCs設計的影響，本發行首先對在繞射效應下的二維ZRCs的設計，將問題設計為特殊的組合最佳化問題後，接著以交叉熵(Cross-Entropy, CE)來解決此最佳化問題，而我們可以看到交叉熵演算法可以得到擁有較小擾射效應影響的ZRCs並且維持相當低的複雜度。 This method is referred to as the autocorrelation approximation approach. However, to meet the requirement of ultrahigh resolution for the grating systems, the size of ZRCs must be reduced. The diffractive effects are important and cannot be ignored, and the autocorrelation approximation approach for designing the ZRC is no longer valid. Therefore, in high–resolution grating systems, limitations are given by the diffraction in design of ZRCs. If the diffraction is considered, the output signal registered in the correlation approximation for 2D ZRC design. To minimize the diffractive effects in the design of 2D ZRC, this work first formulates the 2D ZRC design problem with diffractive effects as a particular combinational optimization problem. Next, it proposes the application of Cross-Entropy (CE) method to solve the problem. And the CE method can obtain good ZRCs with minimum diffractive effects while maintaining low complexity.

備註

本部(收文號1060011881)同意該校106年2月17日中產營字第1061400161號函申請終止維護專利

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