使用超臨界流體輔助之電化學沉積製程系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101105573

專利證號

I 424097

專利獲證名稱

使用超臨界流體輔助之電化學沉積製程系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2014/01/21

技術說明

本技術係有關於使用超臨界流體與電化學溶液混合後，在非超臨界相態下進行電化學反應之處理製程。藉由電化學溶液於反應槽外進行過濾循環時，抽取全部或部分溶液進入超臨界流體之混合槽進行混合，混合後之流體在控制回到電化學反應之溫度、壓力環境下，與原有的電化學反應槽之溶液再度混合，持續進行電化學處理反應，以達到改善電化學處理製程之功效，增加鍍層硬度、成型性，減少針孔、降低晶粒大小、增加鍍層抗腐蝕性能等。在此同時，電化學製程與超臨界混合過程並不是在同一槽體內進行，可縮小超臨界混合槽體之大小，降低設備之成本。 This invention discloses the electrochemical process performed in the non-supercritical state which uses the solution that had been mixed with supercritical fluid. According to this invention, part or all of the solution in the filtering circulation is diverged into a supercritical mixing chamber where it is mixed with the supercritical fluid. The well-mixed solution is then released to reaction environment of the electrochemical chamber and mixed with the remaining solution in the chamber. The electrochemical reaction conducted in the process produces the treatment on the workpiece with improved quality.

備註

本部(收文號1070058709)同意該校107年8月9日北科大產學字第1077900203號函申請申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

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