提高可撓式塑膠基板與光學硬化膜附著度之方法及系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095138695

專利證號

I 323748

專利獲證名稱

提高可撓式塑膠基板與光學硬化膜附著度之方法及系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2010/04/21

技術說明

本研發成果係有關一種提高可撓式塑膠基板與光學硬化膜附著度之方法及系統，主要是利用電漿增強化學氣相沉積系統，並以四甲基矽烷有機液體為源材料，藉由控制該電漿增強化學氣相沉積系統的製程壓力、射頻電漿功率、源材料的流量及沉積時間等參數，而在可撓式塑膠基板上預先沉積一適當厚度之緩衝層薄膜結構，使該層薄膜具有特定的化學鍵結特性並補償可撓式塑膠基板與光學硬化膜間的應力累積，以改善光學硬化膜或各種光學薄膜沉積在可撓式塑膠基板上的附著度特性，提升可撓式塑膠基板應用在光電或光學元件上的實用性與可靠性。 This research describes the preparation method and system for improving the adhesion between the hard coating and the plastic substrate. The buffer layer was prepared with tetramethylsilane (TMS) monomer prior to the SiOx hard coating deposition using the plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system by controlling the deposition parameters such as deposition pressure, r.f. power, gas flow rate and deposition time. By the specific chemical bonds in the interfacial buffer layer, the residual stress in the SiOx hard coating was released and the adhesion behavior can be significantly improved between the hard coating and the plastic substrate, which benefiting in increasing the practicability and reliability of the plastic substrate in related optoelectronics industry.

備註

本部(收文號1070068280)同意該校107年9月26日虎科大智財字第1073400101號函申請申請終止維護專利

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