發明
中華民國
093134587
I 243096
P型氧化鋅薄膜之製作方法
國立交通大學
2005/11/11
本發明只要揭示了在一種高電洞載子濃度的氮參雜p-type氧化鋅薄膜的製備方法,在鍍有氧化矽薄膜的矽基板上,經 由磁控射頻濺鍍法可提高市場佔有率,在低溫成長氧化鋅薄膜,再經過氮離子佈值處理形成。
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