發明
美國
11/208,624
US 7,214,611 B2
金屬連接線壓印鑲嵌結構之製造IMPRINTING-DAMASCENE PROCESS FOR METAL INTERCONNECTION
國立清華大學
2007/05/08
我們提出一個應用於極大型積體電路金屬連線之金 屬鑲嵌製作之新技術發明,先利用電子束微影與無 電極電鍍的方式製作奈米金屬導線,再將金屬導線 轉壓印入低介電常數的材料中,以形成金屬鑲嵌導 線。此項簡單的金屬轉印技術發明,在未來傳統化 學機械研磨金屬鑲嵌製作方技術達到瓶頸時,將可 成為解決方案。此外,本發明亦適用於可曲式電子 元件技術之金屬導線製作製程。
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