核殼結構奈米線及製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097143498

專利證號

I 400192

專利獲證名稱

核殼結構奈米線及製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2013/07/01

技術說明

本發明提供一種核殼結構奈米線，包含一凸端，及一由該凸端底部向下延伸的延伸段，該凸端為由單晶結構的貴重金屬構成，該延伸段具有一線狀的核心及一圍繞於該核心的殼層，該核心為由單晶結構的貴重金屬構成，其金屬選自金、銀等材料，該殼層由單晶的金屬氧化物構成，其金屬氧化物選自三氧化二鎵(Ga2O3)、二氧化錫(SnO2)，或三氧化二銦(In2O3)，藉此結構讓本發明的核殼結構奈米線具有優越的場發射特性；另外，本發明亦提供一種穩定、且可大量生產該核殼結構奈米線的製作方法。

備註

本部(收文號1060012320)同意該校106年2月20日清智財字第1069001047號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

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