具有虛擬量測功能的製造執行系統與製造系統Manufacturing execution system with virtual-metrology capabilities and manufacturing system including the same

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/784,428

專利證號

US 8,983,644 B2

專利獲證名稱

具有虛擬量測功能的製造執行系統與製造系統Manufacturing execution system with virtual-metrology capabilities and manufacturing system including the same

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2015/03/17

技術說明

為了改善半導體製造業的製程穩定度，頻繁的工具及過程的監測以偵測出品質問題是必須的。然而，更多工具與製程的監控同時意味著更多的量測操作費用以及較長的生產週期。最近，一種極具發展潛能之虛擬量測技術正在蓬勃發展。虛擬量測能將具有量測延遲特性的抽樣檢測轉換為線上且即時的完全檢測。正因如此，虛擬量測現在已被ISMI（國際半導體技術製造協會）[1] 以及ITRS（國際半導體技術藍圖制定會）[2] 指名為半導體產業下一世代工廠實現藍圖的重點領域之一。 作者已經研發一套了所謂的全自動虛擬量測（AVM）之系統，其能被應用來全自動地安裝並且部署虛擬量測系统於生產線上。本發明提出一套可將AVM系统整合到製造執行系統（MES）中的創新製造系統。在此創新的製造系統中，AVM、其它MES元件、以及批次控制（R2R）模組之間的介面都將被定義，使AVM的功能得以在生產線上實現。AVM之性能包括：1)將具有量測延遲特性之抽樣檢測轉變為線上且即時的完全檢測；2) 減少或消除監控機台所須之控制／監測工件；和3)支援逐片（Wafer-to-Wafer, W2W）進階製程控制。 Frequent monitoring in both tool and process is required to detect the quality issue early so as to improve the process stability of semiconductor manufacturing. However, more tool and process monitoring means more metrology operation cost and longer cycle time. Recently, a promising technology denoted virtual metrology (VM) is blooming. VM can convert sampling inspection with metrology delay into real-time and on-line total inspection. The authors have developed the so-called automatic virtual metrology (AVM) system to implement and deploy the VM operations automatically. This invention proposes a novel manufacturing system that integrates AVM into the manufacturing execution system (MES). The AVM capabilities include 1) converting sampling inspection with metrology delay into real-time and on-line total inspection; 2) control/monitoring workpieces reduction/elimination; and 3) supporting W2W advanced process control.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

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06-2360524

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