用於多階衝擊器之多微孔噴嘴板及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099105869

專利證號

I 417532

專利獲證名稱

用於多階衝擊器之多微孔噴嘴板及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2013/12/01

技術說明

國內外關於環境中奈米微粒的暴露濃度、粒徑分佈以及化學成份之研究相當多，而最常被學者所採用之採樣設備主要有低壓衝擊器(Low Pressure Impactor)與微孔均勻沉積衝擊器(Micro-Orifice Uniform Deposit Impactor, MOUDI)，而後者又比前者更常被使用。本發明之一目的在於提供一種用於多階衝擊器之多微孔噴嘴板及其製造方法，其多微孔噴嘴板之微孔孔緣平滑，而可避免微粒於其內部累積而導致阻塞者。本發明的一種用於多階衝擊器之多微孔噴嘴板，由半導體製程之微影、蝕刻及電鑄方法所製成，此一多微孔噴嘴板包含有一板體以及多數微孔，微孔形成於該板體且貫穿該板體之頂底兩側，其內徑由噴嘴板之底側朝上逐漸擴大，且內表面平滑，而可避免微粒於其內部堆積而導致阻塞。 A nozzle plate for cascade impactor and a method for manufacturing the same are disclosed. The nozzle plate is formed by a series of semiconductor processes, including lithography, etching and electroplating. The nozzle plate comprises a plate body and a plurality of micro-orifices formed on the nozzle plate. The orifice has a diameter which gradually expands in the direction away from the bottom of the plate body and has a smooth inner surface, allowing the particles to pass therethrough smoothly without being clogged in the nozzle plate.

備註

本部(收文號1100030437)同意該校110年5月58日陽明交大研產學字第1100010652號函申請專利讓與(陽明交大)

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