高分子磨耗顆粒製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094134544

專利證號

I301443

專利獲證名稱

高分子磨耗顆粒製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2008/10/01

技術說明

本發明係屬於一種高分子磨耗顆粒製備方法，特別是用於高分子醫療器材之植入物臨床前測試之動物實驗上，藉由微米製程的技術可設計不同的光罩圖案（mask pattern），來得到尺寸及方向均一的微米加工表面，再配合往復式磨耗測試機的磨耗實驗，便可產生特定大小及形貌的磨耗顆粒，此發明最大的優點除了可得到特定大小及形貌的磨耗顆粒外，還有此發明可縮短磨耗顆粒產生的時間，在短時間內便可得到大量的磨耗顆粒，並藉由分離過濾程序得到粒徑範圍更一致的磨耗顆粒，以符合臨床前測試的標準，提供不同臨床上測試的需求。因此，本發明之一種臨床測試用之高分子磨耗顆粒製備方法，包括：微米加工表面製作之進行；磨耗實驗之進行；與磨耗顆粒之收集。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

02-87720360

網址