原子力顯微鏡掃描方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104100807

專利證號

I 582429

專利獲證名稱

原子力顯微鏡掃描方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2017/05/11

技術說明

近年來，奈米技術成為科技發展的重心之一，主要是因物質在尺度劇減後的物理性質常會產生變化，在了解這些物質在奈米尺度下所擁有的量子和表面現象之後，始可為其另闢蹊徑，應用獲得新材料或新器械。因此，必不可或缺的是可達原子尺度解析度的觀測工具，原子力顯微鏡即為其中一選擇。有鑑於此，本發明提供一種原子力顯微鏡掃描方法，適用於一具有雙探針之原子力顯微鏡，包括：將該些探針進行對位；分別調整該些探針的一傾角適於掃描一試片；分別以一探針掃描該試片以取得一筆掃描資料；及合併該兩筆掃描資料，以獲得該試片上的表面微結構形狀或微特性。 This invention provides a novel scanning method for an atomic force microscopy (AFM), which is suitable for a dual-probes AFM as follows: (1) dual-probes are aligned and tuned by an effective tilting angle for each probe; (2) two probes scan a sample by connecting the information of two probes in order to obtain the precision shape and characteristic of the measured sample.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址