微電漿裝置PLASMA-Generating Device

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

14/099,275

專利證號

US 9,078,337 B2

專利獲證名稱

微電漿裝置PLASMA-Generating Device

專利所屬機關 (申請機關)

淡江大學學校財團法人淡江大學

獲證日期

2015/07/07

技術說明

本發明提供一種微電漿裝置，包含一個陽極板單元、一個陰極板單元及一個電力單元。該陰極板單元面向該陽極板單元設置，並配合該陽極板單元共同界定出一封閉的放電空間。該陰極板單元具有一鑽石膜，該鑽石膜面向該陽極板單元，且該鑽石膜的電子場發射起始電場(E0)小於等於5 V/μm。該電力單元分別電連接該陽極板單元與該陰極板單元，並在供應電力於該陽極板單元與該陰極板單元時，令該放電空間中產生電漿。本發明藉由該鑽石膜的設置使得電漿產生效率提高且電漿穩定性佳，並從而提供市場另一種微電漿裝置的選擇。 This invention is about a microplasma device, which includes a anode, a cathode and a power supply. The cathode faces the anode and delineat an enclosour. The cahode contain a diamond films, which faces the anode. The diamond films possess an electron field emission properties with the turn-on field smaller than 5 V/m. The power supply was connected to the said anode and the said chathode, and supply the high voltage pulse to the anode and cathode so as to ignite the plasma in the space between the cathode and anode. This plasma device is more stable due to the application of diamond film as cathode.

備註

本部(發文號1100066368)同意貴校110年8月11日校研字第1100006615號函申請終止維護專利。(淡江)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

研究發展處

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