光波導結構及其製作方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

108107503

專利證號

I 667503

專利獲證名稱

光波導結構及其製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2019/08/01

技術說明

本發明提供一種光波導結構及其製作方法，其中光波導結構包含：一基板；一第一型半導體導電層，設置在該基板上；一第一侷限層，設置在該第一型半導體導電層上；一波導層，設置在該第一侷限層上，且該波導層包含一發光材料；一高分子填充層，設置在該第一侷限層上且相鄰於該波導層，其中該高分子填充層的黏滯係數小於52平方毫米/秒；一第二侷限層，設置在該波導層及該高分子填充層上；一包覆層，設置在該第二侷限層上；以及一第二型半導體導電層，設置在該包覆層上。 An optical waveguide structure and a manufacturing method thereof are provided. The optical waveguide structure includes: a substrate; a first-type semiconductor conductive layer disposed on the substrate; a first confining layer disposed on the first-type semiconductor conductive layer; a waveguide layer disposed on the first confining layer and including a luminescent material; a polymer filling layer disposed on the first confining layer and adjacent to the waveguide layer, wherein the viscosity of the polymer filling layer is less than 52 mm2/s; a second confining layer disposed on the waveguide layer and the polymer filling layer; a cladding layer disposed on the confining layer; and a second-type semiconductor conductive layer disposed on the cladding layer.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址