發明
中華民國
096130880
I 357108
半導體元件結構
國立清華大學
2012/01/21
以不同幾何形狀的介電質材料置入高壓元件內,改變元件內部電場分佈,以提高元件耐受電壓的 能力,以及降低其導通時的電阻值。 利用淺/深溝渠(shallow and/or deep trench)等製程技術進行。
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