發明
中華民國
097110886
I 425244
抗反射膜及其製成方法
財團法人國家實驗研究院
2014/02/01
本案係指一種抗反射膜,其包含具有一基材折射率的一基材;一第一透明層,其設置於該基材上且具有一第一折射率;以及一第二透明層,其設置於該第一透明層上且具有一第二折射率。其中,該第一折射率大於該基材折射率和該第二折射率,且該第一透明層的厚度介於1nm-40nm之間。
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