製備二維材料的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104100108

專利證號

I 548448

專利獲證名稱

製備二維材料的方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2016/09/11

技術說明

本案中我們提出一個新穎二維奈米材料的製備方法，以氟化石墨烯奈米片為例，利用紫外光照射氟化石墨的N-甲基吡咯烷酮分散液中，我們發現可以有效的幫助氟化石墨烯的剝除，從穿透式電子顯微鏡與原子力顯微鏡的分析可得知氟化石墨烯奈米片的厚度約為3 nm，比以傳統超音波震盪製備的氟化石墨烯更薄，顯示此方法有較好的效率。我們也發現氟化石墨烯奈米片能以旋轉塗佈的方式沉積於基板上，並作為高分子太陽能電池中之電子傳輸層。 Herein, we describe one novel method for preparation of two-dimensional nanomaterials. Taking fluorinated graphene nanosheets (FGS) as an example, we discovered that the use of UV radiation upon the fluorinated graphite (FG) dispersion in N-methyl-2-pyrolidone could facilitate the exfoliation of FGS. From the analysis of the images obtained from transmission electron microscopy and atomic force microscopy, the average thickness of the FGSs was ca. 3 nm, which was thinner than that of the nanosheets prepared using conventional sonication approach. Furthermore, the FGS can be uniformly deposited on the substrates by spin coating and behaved as an effective electron transport layer of polymer solar cells (PSCs).

備註

本會(收文號1110027136)回應該校111年5月12日陽明交大研產學字第1110015716號函申請終止維護專利(國立陽明交通大學)

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