製備奈米碳材與含有該奈米碳材的基板與高分子膜的方法及其應用

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097137903

專利證號

I 367860

專利獲證名稱

製備奈米碳材與含有該奈米碳材的基板與高分子膜的方法及其應用

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2012/07/11

技術說明

本發明製備含有奈米碳材的基板的方法係包含以下步驟：(i)提供一基材，該基材包括一碳源層及一形成於該碳源層之部份表面上的導電層，且該碳源層的材質是選自於酚甲醛樹脂、聚對苯二甲酸丁二酯、聚四氟乙烯、偏氟乙烯、聚乙烯醇、聚丙烯、聚乙烯吡咯烷酮，或此等之ㄧ組合，該導電層的材質是選自於銅、鐵、鈷、鎳，或此等之ㄧ組合，以及(ii)對該導電層通以一電流，使該碳源層表面進行熱裂解，進而製得一含有一底層及一位於該底層上的奈米碳材的基板。

備註

本部(收文號1060063873)同意該校106年8月10日興產字1064300420號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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