Method for in-situ monitoring layer uniformity of sputter coating based on intensity distribution of plasma spectrum

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

ITRC

專利證號

6493070B1

專利獲證名稱

Method for in-situ monitoring layer uniformity of sputter coating based on intensity distribution of plasma spectrum

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2002/12/10

技術說明

Method for in-situ monitoring layer uniformity of sputter coating based on intensity distribution of plasma spectrum

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址