發明
中華民國
096144687
I 341823
互補金屬氧化半導體生物感測器之製造方法
財團法人國家實驗研究院
2011/05/11
A fully CMOS compatible MEMS multi-project wafer process comprises coating a layer of thick photoresist on a wafer surface, patterning the photoresist to define a micro-machining region, and performing a micromachining in the micromachining region to form suspended microstructures.
本部(收文號1110009447)同意該校111年2月17日國研授半導體企院字第1111300263號函申請終止維護專利(財團法人國家實驗研究院)
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