一種組織斷層掃描系統與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093124205

專利證號

I253510

專利獲證名稱

一種組織斷層掃描系統與方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2006/04/21

技術說明

本發明係一種組織斷層掃描系統與方法，乃關於一種創新 型可攜式之精密三維表面輪廓及次表面量測探頭與系統， 並以數位光學方法來進行活體組織之光學同調斷層掃描。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

02-87720360

網址