可調式電極植入系統及其可調式電極植入裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097144602

專利證號

I 423790

專利獲證名稱

可調式電極植入系統及其可調式電極植入裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2014/01/21

技術說明

本發明提出一種用來控制植入電極位置的非侵入式系統. 此系統包含: 一個植入的電極陣列, 包括至少一個電極, 至少一個磁感應元件依附在每一電極旁, 一個彈性材質的載體用以裝載該電極及磁感應元件, 一外部磁控制系統用以控制該磁感應元件, 其中該磁感應元件可以受該外部磁控制系統之磁力導引而帶動該載體移動以改變該磁感應元件所依附之電極的位置. 本發明可應用在人工電子耳系統、深層腦電刺激、人工電子視網膜系統等等. This invention proposes a non-invasive system for controlling the position of an implant electrode. This system comprises: an implant electrode array comprising at least one electrode contact, at least one magnetic inductive elementcomponent attached beside each of the said electrode contact, a flexible material carrier used to carry the said electrode contact and the said magnetic inductive elementcomponent, an external magnetic control system used to control the said magnetic inductive elementcomponent, wherein the said magnetic inductive elementcomponent is induced magnetically by the said external magnetic control system to move the carrier and therefore change the position of the said electrode contact attached by the said magnetic inductive elementcomponent.

備註

本部(收文號1080035227)同意該校108年6月4日交大研產學字第1081004865號函申請終止維護專利。

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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連絡電話

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