太陽能板抗反射層的製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

110112166

專利證號

I 771975

專利獲證名稱

太陽能板抗反射層的製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2022/07/21

技術說明

本案模組利用MEMS網版印刷技術製作出微米等級的抗反射微結構，使用印刷方式將微結構 (金字塔型、高深寬比之半球體結構、半球體結構) 以陣列方式製作於高透光率之面板 (PMMA) 上，後續以光學膠 (Optically Clear Adhesive) 或液態光學膠 (Liquid Optically Clear Adhesive) 將製作出之微結構倒至貼於太陽能板表面之鋼化玻璃，形成一具備微結構陣列及空氣腔體的抗反射層。光線通過此一結構將因空氣與結構之間折射率差異產生部分全反射現象，使得原本被太陽能板反射的光線再度回到太陽能板中，增加了光線的利用率，進而提升太陽能板發電量。而表面則為一平面之高透光率面板，相較於將微結構直接裸露於大氣環境當中的廣角收光的抗反射結構，較不容易沾黏污染物質，且便於後續太陽能板表面之清潔維護。而使用MEMS網版印刷技術可以在不影響太陽能板原始製程的狀況下，直接在表面上進行貼附即可。當此模片毀損或達到使用壽命後，可以將其清除並更換新的模片，如此可常保太陽能板之發電效率。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址