真空濺鍍腔體防著板調整機構

專利類型

新型

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093208667

專利證號

M258100

專利獲證名稱

真空濺鍍腔體防著板調整機構

專利所屬機關 (申請機關)

修平學校財團法人修平科技大學

獲證日期

2005/03/01

技術說明

一種真空濺鍍腔體防著板調整機構，其係於真空腔體內左右兩側輪軸固定座之兩端各設有至少 一調整機構，該調整機構各包括一防著板、一彈性元件及一調整螺絲，該防著板設於托盤與輪 軸固定座之間，可用以阻隔鍍膜分子直接沉積在真空腔體底部及傳輸機構表面上，該彈性元件 設於輪軸固定座所預設的一容置凹孔中，可用以推動防著板的一端向上或向下移動，該調整螺 絲具有一螺紋部，係以螺紋部螺設於輪軸固定座所預設的螺孔上，其上端有一螺絲頭，位於防 著板上方並卡住其一端，藉由調整螺絲的轉動來調整防著板與托盤之間的相對距離、傾斜角度 及水平度，達到最佳化間隙狀態，可有效避免鍍膜分子沉積在托盤底部而造成真空腔體污染， 進而提高鍍膜品質及設備稼動率，充分反應真實濺鍍狀況。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

研究計畫組

連絡電話

0424961100轉6412

網址