感測裝置及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105119267

專利證號

I 623945

專利獲證名稱

感測裝置及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2018/05/11

技術說明

一種奈米線複合結構及其製造方法，本材料可以溶液方式大量生產，並可以直接將材料以塗佈方式製備大面積感測器，技術實現性高，並可使用於感測裝置，作為光感測器或生物感測器。 本奈米線複合結構包含奈米線核心以及金屬層，奈米線核心的材料包括硒(Se)、碲(Te)或其組合；金屬層包覆於奈米線核心上。感測裝置包含基板，第一電極及第二電極設置於基板上，以及複數個奈米線設置於基板上，且位於第一電極與第二電極之間，其中上述奈米線具有第一奈米線接觸第一電極，及第二奈米線接觸第二電極，且上述奈米線的每一個奈米線至少與另一個奈米線接觸，上述奈米線為光感測器。 NANOWIRE COMPOSITE STRUCTURE AND METHODS OF FORMING THE SAME, SENSING DEVICE AND METHODS OF FORMING THE SAME AND PROTECTIVE STRUCTURE OF A NANOWIRE

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址