具次波長結構之抗反射疏水透明鍍層的製法及其應用

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105140940

專利證號

I 608020

專利獲證名稱

具次波長結構之抗反射疏水透明鍍層的製法及其應用

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2017/12/11

技術說明

本發明藉由LB沉積法結合氧氣電漿處理可以快速製備大面積之次波長結構模板，再透過奈米壓印微影可將此具有抗反射性質之次波長結構圖案轉印到軟性的透明高分子材料上，相較於傳統之半導體製程方法，其成本要低廉許多，且適用於各式之透明基板上。將來更渴望能廣泛地運用於顯示器產業、太陽能電池產業與照明產業、OLED、LED、顯示器螢幕、數位相機鏡頭、手機面板、汽車玻璃、室內外玻璃、攜帶式電子產品螢幕，甚至拓展至生物醫療的應用上。特別是，隨著大尺寸液晶電視的出現，由陽光和室內燈光引起的反射現象，造成了螢幕上閱讀困難的問題。而依據此次波長結構所開發出的抗反射面板，可將螢幕的反射降至最低，以減少影像失真。不僅如此，此項技術亦可加深黑色的暗色調，為影像帶來較高的對比度，且不會產生眩光與光暈。 Antireflective coatings are used to reduce surface glare in everything from eyeglasses and camera lenses to solar cells, TV screens and LED devices. Up to now, two main approaches have been followed to fabricate efficient antireflective coatings: multilayer coatings and graded index coatings. In this patent, we reported a combination of Langmuir-Blodgett (LB) deposition technique and oxygen plasma treatment to fabricate a antireflective structure. Finally, we replicated the subwavelength structure onto the surface of glass substrate by nano-imprint lithography. The Fresnel reflection of replicated subwavelength structures is near the theoretical prediction from the effective medium theory model. Therefore, the antireflective structure can be applied in the fields of solar cells, monitors, LEDs, and other optical devices in the future.

備註

本部(收文號1100055350)同意該校110年9月1日虎科大智財字第1103400093號函申請終止維護專利(虎科大)

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