發明
中華民國
093103797
I 247881
具有液晶相位調變器之相位移疊紋干涉儀
國立成功大學
2006/01/21
疊紋干涉儀已經是一種完善地發展且用於量測物體表面位移場的方 法。疊紋干涉儀中可描繪出位移場的干涉條紋是由兩道來自變形後試 件光柵的同調雷射光束交互作用而產生。由於具有全場量測、高空間 解析度與極佳的條紋清析度等優點,疊紋干涉儀被廣泛地應用在實驗 力學領域上。雖然疊紋干涉儀具有極高的靈感度,但位移的解析度卻 被試件光柵的節距所限制住。當條紋數少時,要獲得局部應變(或位移 梯度)仍是相當困難的。相位移技術是可決定干涉條紋中每個像素相位 之相位估測方法之一。藉由相位移技術,物件表面位移場的連續分佈 將可顯示出來。近來,液晶所製成的光學元件已蓬勃地發展,而這些 元件的基本操作原理都依據在液晶分子的雙折射性上。液晶元件不僅 可用在光強度調變(例如,液晶顯示器)方面,更可製成光相位調變 器。在本技術發明中,即製作適用於疊紋干涉儀系統的液晶相位調變 器光電元件並將之與傳統的疊紋干涉儀結合以達相位移的技術。使用 本發明中之液晶相位調變器來達相位移的技術將比其它方法具有非常 多的優點。
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