位移量測裝置及其量測方法APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/772,370

專利證號

US 8,526,007 B2

專利獲證名稱

位移量測裝置及其量測方法APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING DISPLACEMENT

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2013/09/03

技術說明

本發明係一種結合波長調制外差光源、散斑干涉儀及相位解調技術之位移量測裝置。本發明包括ㄧ波長調制光源模組、散斑干涉儀模組與一項位解調技術。首先由一波長時變的光束，經過分光裝置後產生兩道具有光程差的光線，這兩道光線即組成外差光源。該光源入射散斑干涉儀模組之表面而產生一散射光。當表面有位移時，位移資訊將載入至散射光中散斑的相位中。將散射光的散斑信號，配合所提出的解相位技術，即可取出散斑信號的相位，進而計算得到平面的位移。

備註

本部(收文號1060048584)同意該校106年7月13日中大研字第1061430172號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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