奈米多孔性高分子薄膜製備方法及奈米多孔性薄膜製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107105826

專利證號

I 663198

專利獲證名稱

奈米多孔性高分子薄膜製備方法及奈米多孔性薄膜製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2019/06/21

技術說明

本發明提供一種奈米多孔性高分子薄膜製備方法,包含以下步驟。提供高分子薄膜,將高分子溶液塗於基材上形成高分子薄膜,高分子溶液包含高分子;提供膨潤退火作業,使蒸氣室內含呈蒸氣狀態之一第一溶劑,將高分子薄膜置於蒸氣室中使高分子薄膜膨潤後並持續置於蒸氣室中進行退火以形成膨潤高分子薄膜,膨潤高分子薄膜包含高分子及第一溶劑;提供快速降溫作業,將膨潤高分子薄膜快速降溫以使第一溶劑結晶;以及提供第一溶劑去除作業,利用第二溶劑移除第一溶劑以取得奈米多孔性高分子薄膜。藉此具有製程簡單且兼具經濟效益。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址