干涉量測裝置及其量測方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098126993

專利證號

I 408338

專利獲證名稱

干涉量測裝置及其量測方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2013/09/11

技術說明

本發明有關於一種干涉量測裝置，尤指一種低同調光之干涉量測裝置，主要包括有一光源模組、一分光器、一第一透鏡組及一第二透鏡組，其中光源模組所產生的光束會投射於分光器上（註：一般摘要部分會與 “最大的權利範圍”claim 1內容一致，由於我們在claim 1中沒有提及掃描鏡組，而是在附屬項中描述，以擴大權利範圍，因此，建議使用投射代替掃描），並以分光器將光束進行分光，以產生一第一光束及一第二光束，且第一光束及第二光束分別穿透第一透鏡組及第二透鏡組而投射在一反射模組及一待測物上，反射模組及待測物所反射與散射的光束將會在一偵測裝置形成一干涉圖案，藉此將以推算出待測物的輪廓與深度結構。 The present invention relates to an interference measuring device, and more particularly to this measuring device is the use of a low coherence light, which comprises a light source module, a beam splitter, a first lens module, and a second lens module. A light beam that is generated from the light source module can be projected at the beam splitter. The beam splitter can split the light beam for generating a first light beam and a second light beam, wherein the first light beam can pass through the first lens module and then project on the reflecting module, and the second light beam can pass through the second lens module and project on the object. Furthermore, the first light beam and the second light beam that are reflected by the reflecting module, and the object respectively can reflect and scatter the light back to the detection device to form an interference pattern for obtaining the external structure of the object.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

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