利用光學讀寫頭之積層製造裝置(ADDITIVE MANUFACTURING APPARATUS)

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

16/139,554

專利證號

US 11,175,588 B2

專利獲證名稱

利用光學讀寫頭之積層製造裝置(ADDITIVE MANUFACTURING APPARATUS)

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2021/11/16

技術說明

本發明揭露一創新之積層製造裝置系統架構，以立體光刻技術為基礎，利用習知的光學讀寫頭之光學聚焦模組，搭配二維平面掃描之方式，對液體聚合物進行光固化，並以逐層拉移之方式，實現立體結構之物件製作。由於光學讀寫頭具有微小之聚焦光點，該系統之主要特點為可製作高解析度之精密元件或系統。此外，本發明可搭配陣列式之聚焦模組設計，能有效提升平面之掃描速度，減少製造所需之時間。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

網址