反應性模板之製備方法、奈米材料之製備方法及奈米材料

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092137325

專利證號

I 254030

專利獲證名稱

反應性模板之製備方法、奈米材料之製備方法及奈米材料

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2006/05/01

技術說明

一種在一不干擾反應的惰性氣體氛圍下，將反應物A均勻塗佈於具特殊形貌的模板T上，以使 形成一製備奈米材料用之具有反應物A的模板TA，於反應器中不干擾反應的惰性氣體氛圍下， 使模板TA之反應物A與反應物B起反應，以製備一具有生成物C的反應性模板TC；以及於不干擾 反應的惰性氣體氛圍下，使用該反應性模板，利用溶劑將具有生成物C的反應性模板TC中之模 板T予以移除，使形成奈米材料之製備方法，及所製得的具有與模板T相同之特殊形貌的奈米 材料。

備註

本部(收文號1040087827)同意該校104年12月10日交大研產學字第1041013203號函申請終止維護專利

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