雙光柵訊號量測系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

099117039

專利證號

I 414756

專利獲證名稱

雙光柵訊號量測系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2013/11/11

技術說明

隨著現今高科技產業技術的發達，目前高科技產品也都不斷的趨向於短、小、精、薄，尺寸的精度也從微米級推向微奈米級，而加工中的品質與精度乃是產品中最主要的基本要求，精密的量測技術有助於我們對於整個產品品質及良率的提升，一般在進行精密量測時，使用雷射干涉儀而言，其一次只能量取一項幾何誤差，因此在量測所有誤差時需更換不同量測架構，儀器的安裝和參考軸的對準亦需個別校正，每次重新校正所量取的實際量測路徑並無法與前次路徑完全相同，多次校正亦產生誤差，量測耗時而且增加量測不確定性，而自動視準儀器對轉動角度雖具有高解析度，但整體架構太重不適合安裝機器上做線上量測。在檢測線性平台及X、Y運動平台的量測儀器上，無論量測儀器是雷射干涉儀、光學尺、自動視準儀或電子水平移等，皆只能一次量取一個或二個自由度誤差，卻無法同時一次量取五自由度誤差，致使量測的工作更無效率。所以本發明一種雙光柵光學對準量測系統，此種雙光柵對準量測系統將可大幅度的提升多自由度精密量測的對位精度。

備註

本部(收文號1050076387)同意該校105年9月20日虎科大智財字第10534001850號函申請終止維護專利

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