奈米粒子圖形的形成方法 | 專利查詢

奈米粒子圖形的形成方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092119223

專利證號

I281098

專利獲證名稱

奈米粒子圖形的形成方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2007/05/11

技術說明

本發明揭示一種奈米粒子圖形的形成方法,包含下列步驟:提供一基底,具有一奈米粒子 接著層於上述基底上;形成一圖形化罩幕層於上述奈米粒子接著層上,其中上述圖形化罩幕 層具有一開口,暴露部分上述奈米粒子接著層;形成一自組裝奈米粒子薄膜於上述開口內的 上述奈米粒子接著層上;以及移除上述圖形化罩幕層。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686


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