具有高精密度之位移感測干涉儀

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098103493

專利證號

I 393858

專利獲證名稱

具有高精密度之位移感測干涉儀

專利所屬機關 (申請機關)

國立雲林科技大學

獲證日期

2013/04/21

技術說明

本發明之具有高精度之位移感測干涉儀，其包含一光源與準直系統、一量測鏡與位移模組、一參考鏡與訊號處理模組；該光源與準直系統產生一雷射光束並部份透射該量測鏡，該雷射光束再由該參考鏡反射，而於該參考鏡與該量測鏡間形成多重反射，之後於該參考鏡後互相疊合而形成干涉。該參考鏡後之干涉條紋由一訊號處理模組之一分光器將具有干涉條紋的雷射光束分成兩光束，並藉不同相位差之感測與提出之數學分析模式，將可以判斷該量測鏡之位移方向及高精密位移量。 A laser interferometer is developed for high precision displacement measurement. The major components include light source, collimator, measurement mirror and linear stage, reference mirror and signal process module. From the light source, a parallel beam is formed by the collimator and then is partially transmitted through the measurement mirror. The beam is reflected by the reference mirror. Between two mirrors, there will be multi-reflection. Behind the reference mirror, interference can be observed by the superposition. By the beam splitter in signal process module, the beam with interference fringe has been divided in two beams. The directional diagnose and high precision displacement of measurement mirror can be realized by phase-difference detection and math algorithms model.

備註

本部(發文號1100061386)同意貴校110年10月6日雲科大研字第1100502212號函申請終止維護專利。(雲科大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財管理組

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