結構分析系統及方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098130075

專利證號

I 407097

專利獲證名稱

結構分析系統及方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2013/09/01

技術說明

本發明提供一種結構分析系統，可以縮短偵測時間，並節省底片的成本及顯影時間。該結構分析系統適用於分析一待測物的結構，且包含一電磁波源、一頻譜偵測器及一處理模組。該電磁波源用於發射一具有多數頻率成分的電磁波到該待測物。該頻譜偵測器用於在空間中一位置偵測從該電磁波源發出、通過該待測物且傳送到該位置的電磁波之頻譜，以產生一頻譜資料。該處理模組用於根據該頻譜資料計算與該待測物的結構相關的資訊。本發明是有關於一種結構分析系統及方法，特別是指一種利用寬帶（broadband）電磁波來分析一待測物之結構的結構分析系統及方法。 It is shown that the structure information for a lattice or periodic pattern can be obtained by measuring the diffracted spectrum of a broadband light source at one spatial position in the far field. This method has the merits of saving time and films.

備註

本部(收文號1070026132)同意該校107年4月18日興產字第1074300247號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術授權中心

連絡電話

04-22851811

網址