防偽浮水印圖像及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101139373

專利證號

I 494896

專利獲證名稱

防偽浮水印圖像及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣師範大學

獲證日期

2015/08/01

技術說明

一種防偽浮水印圖像及其製造方法，該製造方法包含：提供一個人化圖像；利用一濃度校正導表選擇該個人化圖像中至少一圖像區域的調頻網點及至少一背景區域的調幅網點之個別濃度，使得在複印前為該調頻網點的灰階值低於該調幅網點的灰階值，並在複印後用以造成該調頻網點的灰階值高於該調幅網點的灰階值，藉以決定數位半色調過網之參數設定；以及根據該數位半色調過網之參數設定將該個人化圖像印刷輸出至一原稿文件之表面，以形成一具有在複印後黑白反轉作用之浮水印圖案。 An anti-counterfeiting watermark and a manufacturing method therefor are provided. The manufacturing method includes steps of: providing an individual pattern; using a concentration calibration table to select the concentration of amplitude modulation (AM) dots of at least one pattern area and frequency modulation (FM) dots of at least one background area to control that the gray scale value of the FM dots is smaller that that of the AM dots before being duplicated and that the gray scale value of the FM dots is greater than that of the AM dots after being duplicated, in order to determine parameter setting of digital halftone screening; and printing the individual pattern onto a surface of an original document according to the parameter setting of the digital halftone screening, so as to form a watermark with a function of reversing the individual pattern to a negative contrast after being duplicated.

備註

本會(收文號1121014783)同意該校112年6月1日師大研合字第1121014783號函申請終止維護專利(國立臺灣師範大學)/依本會112年第3次研發成果管理審查會決議辦理

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作組

連絡電話

77341329

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