含芙阻劑、製備方法與微影製程

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093109212

專利證號

I273351

專利獲證名稱

含芙阻劑、製備方法與微影製程

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2007/02/11

技術說明

一種含芙阻劑，包括：一阻劑；以及一0.005～0.05%（w/v）的C60或C70，以含芙阻劑材料 為基準。一種含芙阻劑的製備方法，包括：將一C60或一C70溶於一溶劑中，形成一溶液；以 及混和上述溶液與一阻劑，其中該C60或該C70在含芙阻劑材料中的濃度為0.005～0.05% （w/v）。一種含芙阻劑的微影製程，包括：將一C60或一C70溶於一溶劑中，形成一溶液； 混和上述溶液與阻劑，形成一含芙阻劑，其中該C60或該C70在含芙阻劑材料中的濃度為 0.005～0.05%（w/v）；將上述含芙阻劑置於一基底上，形成一阻劑層；以及圖案化上述阻 劑層。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址