紅外光感測膜層製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

095138298

專利證號

I315586

專利獲證名稱

紅外光感測膜層製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2009/10/01

技術說明

目前微輻射熱測定元件上之紅外線感測薄膜存在有製程繁複 且成本過高之問題，本發明係希望揭露一種紅外線感測薄膜 製造方法，希望在低設備成本的前提下，提供一簡易製程， 製備高效率之非冷卻型紅外光感測器之熱敏電阻材料。 該紅外線感測膜層係經圖案化後係應用作為紅外線感測元 件，其主組成為V1-x-yWxSiyO2，係透過摻雜特定莫耳比例 之鎢離子（W6+）及預定莫耳比例之矽離子（Si4+）於一VO （OR）n溶液中以溶膠凝膠法製備並在還原氣氛（reducing atmosphere）爐中持溫鍛燒製成，其中0

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

02-87720360

網址