利用液滴聚集雷射光之加工裝置及其加工方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107116798

專利證號

I 669178

專利獲證名稱

利用液滴聚集雷射光之加工裝置及其加工方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立雲林科技大學

獲證日期

2019/08/21

技術說明

本發明係包括一工作部及一雷射光源。工作部係具有一工作空間，用以設一待加工物。待加工物具有一工作表面，用以披覆一工作液，工作液係為一高分子材料及一溶劑之混合液。利用呼吸圖法，使工作液於溶劑揮發後變成一高分子膜，並於高分子膜上冷凝出複數液滴，而形成一透鏡部。雷射光源用以朝透鏡部發出一雷射光，進而聚集於工作表面上，使工作表面形成至少一雷射加工凹部。故，本案達到改變液滴形狀或排列方式即可輕易控制改變雷射聚集或加工條件，及非平面結構也可進行雷射加工微奈米孔洞等優點。

備註

本部(發文號1100061386)同意貴校110年10月6日雲科大研字第1100502212號函申請終止維護專利。(雲科大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財管理組

連絡電話

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