準共光程外差光柵干涉儀

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

096151660

專利證號

I 358530

專利獲證名稱

準共光程外差光柵干涉儀

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2012/02/21

技術說明

本發明係一種結合外差干涉術與剪切光柵干涉儀的位移量測系統。本發明包含有一外差光源模組與一剪切光柵干涉模組。一經過調制的外差光源經擴束系統後，一部分光束經過波片，產生偏振態旋轉，而另一部分光束則保持原先偏振態。兩光束經透鏡聚焦於光柵，並且產生繞射。兩光束的不同階繞射光將會重疊產生干涉。當光柵位移時，將於各階繞射光引進相位變化。重疊光束經分光後，通過兩個穿透軸相互垂直的偏振片，產生兩干涉訊號。利用光偵測器抓取兩干涉訊號。藉由比對兩訊號相位差即可得到光柵位移。在此技術中，光束所走路徑僅稍有不同，將使環境擾動所引進的誤差減至最低。

備註

本部(收文號1060048584)同意該校106年7月13日中大研字第1061430172號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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