奈米壓印製程Nano-Imprinting Process

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

11/897,859

專利證號

US 7,955,545 B2

專利獲證名稱

奈米壓印製程Nano-Imprinting Process

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2011/06/07

技術說明

本發明揭露一種快速奈米壓印製程。本發明目的在提出一種快速奈米壓印製程，至少包括下列 步驟。首先，提供一材料作為奈米壓印所需的基底材料。接著在基底材料表面上塗佈上一層欲 轉印之材料層。接著將具有凸設特徵圖形的平板模仁表面上蒸鍍上一層金屬薄膜。接下來，將 平版模仁置於欲壓印材料表面之上，其中平板模仁上的凸設特徵圖形與預壓印層之表面接觸。 接下來，施加外應力於平面模仁之上，使平板模仁與欲壓印之材料層緊密接觸。然後，移除平 板模仁。

備註

本會(收文號1110048580)同意該校111年7月26日成大產創字第1111102285號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

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