監控薄膜厚度變化之方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094127381

專利證號

I 269398

專利獲證名稱

監控薄膜厚度變化之方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2006/12/21

技術說明

本發明主要是提出一個直接監控薄膜厚度變化的表示法簡稱「二維厚度表示法」，以便使用於架設在電漿源蝕刻機台 的橢圓偏光儀線上即時量測系統，觀測厚度的變化情況。本法是利用虛擬儀控程式由橢圓參數變化計算厚度週期解， 對照「二維厚度表示法」達到直接觀測與監控薄膜厚度隨時間的變化。

備註

本部(收文號1040087827)同意該校104年12月10日交大研產學字第1041013203號函申請終止維護專利

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