具有進氣擋板之有機金屬化學氣相沉積進氣擴散系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

102122802

專利證號

I 472645

專利獲證名稱

具有進氣擋板之有機金屬化學氣相沉積進氣擴散系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2015/02/11

技術說明

本專利是一個進氣擴散系統部分，我們設計不同形式且可拆卸的進氣檔板，提供MOCVD設備使用。此裝置能避免反應氣體在進氣口周圍產生預反應，因此可有效減少進氣口產生阻塞，此裝置並設計為可拆卸的形式，使進氣擴散系統容易清洗維護，提升機台的使用效率，此外，多樣化的進氣檔板幾何形狀及陣列設計，可以達到分區控制的需求，對於大尺寸與多片式的晶圓可有效提升薄膜沉積均勻性，而進氣檔板的氣體導引效應，可有效增加MO源氣體的使用效率，減少MO源氣體用量，此設計並可控制檔板傾斜角度，這對於在生長LED多層異質結構時可達到更高的薄膜均勻性。 This patent is part of a air diffusion system, we design different form and detachable air inlet baffle, provide MOCVD equipment. This device can avoid reaction gas in inlet mouth around produced pre-reaction, so may effective reduced inlet mouth produced blocked, this device and design for may demolition of forms, makes inlet diffusion system easy cleaning maintenance, upgrade machine Taiwan of using efficiency, also, diversification of inlet bezel geometry shape and the array design, can reached partition control of needs, for big size and more tablets type of Crystal Round may effective upgrade film deposition uniform sexual, and inlet document version of gas guided effect, may effective increased MO source gas of using efficiency, MO source gas consumption reduction, this design and control bezel angle, this growth LED multilayer heterostructure to achieve greater uniformity of thin films.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

網址