頻閃式光學影像映射系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100117254

專利證號

I 437223

專利獲證名稱

頻閃式光學影像映射系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2014/05/11

技術說明

隨著奈微米機電系統(Nano/Micro-electromechanical system, NMEMS)技術之成熟，工業界對於微細元件檢測的需求不斷提高，量測設備與技術也不斷的創新。習用之接觸式或是非接觸式量測方法，已無法滿足市場對於高精度與快速檢測的需求。再者，由於產業在近幾年不斷的轉型，各種生產設備，如：自動化光學檢測設備等的需求量也越來越大，相較於傳統使用人工檢測的方式，經由機器輔助來進行自動化之視覺檢測，可有效提升整體生產線效率與品質。 本發明提供一種共焦顯微形貌量測方法與裝置，其係藉由光柵片產生具有圖案之結構光，再配合偏極片元件與結構光漂移步驟結合聚焦形貌量測原理，以擷取關於一物體對應不同深度之一系列光學影像。接著利用取得每一光學影像中所具有之複數個像素所分別具有之聚焦指標值，以形成對應每一像素所具有的聚焦反應曲線。最後求得每一像素之聚焦反應曲線峰值並根據每一峰值所對應之深度予以重組，以得到關於該物體之形貌特徵。 A method and system for three-dimensional polarization-based confocal microscopy are provided in the present invention for analyzing the surface profile of an object. In the present invention, a linear-polarizing structured light formed by an optical grating is projected on the object underlying profile measurement. By means of a set of polarizers and steps of shifting the structured light, a series of images with respect to the different image-acquired location associated with the object are obtained using confocal principle. Following this, a plurality of focal indexes respectively corresponding to a plurality of inspected pixels of each image are obtained for forming a focal curve with respect to the measuring depth and obtaining a peak value associated with each depth response curve. Finally, a depth location with respect to the peak value for each depth response curve is obtained for reconstructing the surface profile of the object.

備註

本會(收文號1110059790)同意該校111年9月21日北科大產學字第1117900275A號函申請終止維護專利(國立臺北科技大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

02-87720360

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