一種以電漿方法處理製程廢氣與微粒的裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094126474

專利證號

I 317387

專利獲證名稱

一種以電漿方法處理製程廢氣與微粒的裝置

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2009/11/21

技術說明

一種以電漿方法處理製程廢氣與微粒的裝置，係由一高密度電漿處理腔體及高效率靜電吸附板所組合而成，並直接加裝於製程機台腔體與抽氣幫浦之間。當製程機台腔體進行如薄膜及蝕刻等製程時，其所排出之氣體含有未反應之製程氣體、副產物氣體以及微粒等，在薄膜沉積階段，高密度電漿處理腔體能繼續將未反應之製程氣體完全反應，而高效率靜電吸附板則能將所有來自製程機台腔體或其後高密度電漿處理腔體所產生之微粒，吸附於靜電吸附板上；當製程機台腔體通入全氟化合物氣體作清潔腔體時，其所排出之氣體亦含有未反應之全氟化合物氣體及副產物氣體，此未反應之全氟化合物氣體亦繼續在高密度電漿處理腔體內被充分解離，然後將原先吸附在靜電吸附板上之微粒清除乾淨，達到同時處理全氟化合物氣體及微粒之目的。另外於處理全氟化合物氣體時可酌量加入催化氣體，增加對全氟化合物氣體之處理效率。最後所有氣體再經幫浦導入小型洗滌塔作最後處理。 【創作特點】 本發明之主要目的在於提供一種以電漿方法處理製程廢氣與微粒的裝置，係加裝於製程機台腔體後端（下游），以達到利用高密度電漿及高效率靜電吸附板產生並收集所有微粒，避免或減少微粒對於後端管路所產生各種困擾。 composite device for particle and polution

備註

本部(收文號1060052140)同意該院106年7月25日國研授儀服院字第1060901102號函申請終止維護專利

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