MEASURING OPTICAL ELEMENT FOR ABERRATION FROM GRAVITY AND HOLDING

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

14/322,912

專利證號

US 10,209,161 B2

專利獲證名稱

MEASURING OPTICAL ELEMENT FOR ABERRATION FROM GRAVITY AND HOLDING

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2019/02/19

技術說明

本發明係一光學元件之量測方法、電腦可執行記錄媒體、系統及設備，其執行下列步驟：照射一雷射光線至光學元件，並覆蓋該光學元件之全部；連續旋轉該光學元件以360度，以取得反射自該光學元件之反射光之一對應於特定旋轉角度之特定組數的反射光波前圖像；分析該等反射光波前圖像之多種像差特徵資訊；分別解析出該等像差特徵資訊上之複數種干擾因素以對應於該等量測誤差；分別計算該等量測誤差各自之分類像差特徵資訊；分別解析該等分類像差特徵資訊，以分別得到該等量測誤差的一對應誤差量。 A method, computer executable recording media, system and apparatus for optical element testing. The steps are impinging a laser ray to the optical component to cover the optical component; rotating 360 degree for the optical component to acquire wavefront picture sets; analyzing aberration feature information sets from the wavefront picture sets; analyzing interference factors from the aberration feature information sets, calculating categorized aberration feature information sets; and analyzing corresponding error amounts from the categorized aberration feature information sets.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址