可調均勻光源罩之裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098127034

專利證號

I 371551

專利獲證名稱

可調均勻光源罩之裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2012/09/01

技術說明

本發明係為一種增強型光源罩裝置，接收來自發光單元之光源，其裝置包含殼體與二次光學單元。殼體具有容置空間，且在該容置空間之上下面，分別地具有上結合部與下結合部的功能。二次光學單元設置於殼體之上結合部，且具有至少一入射面與至少一出射面之複數透鏡，用以控制光源之出射光之均勻度與角度。其中，發光單元與殼體之下結合部接合，且光源透過容置空間入射至二次光學單元之入射面，並於二次光學單元之出射面以獲得出射光。

備註

本部(收文號1080048903)同意該校108年7月19日中大研產字第1081400892號函所報終止維護專利。

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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