光學量測與成像系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098145065

專利證號

I 401408

專利獲證名稱

光學量測與成像系統

專利所屬機關 (申請機關)

中央研究院

獲證日期

2013/07/11

技術說明

本發明係關於一種光學成像機制用於可量測物體高度、角度及其變化之系統(US 7,247,827)像散式量測系統（ADS）。此成像機制可觀察量測光點以及物體表面之微小結構之距離關係。可將ADS之量測光點對焦於物體表面上之微小結構，並量測此結構之高度角度及其變化，搭配一致動器可將ADS之量測光點對焦於物體表面上微小結構之不同區域，使用此成像機制與一致動器。此光學成像機制搭配像散式量測系統（ADS）可成為一套完整之光學量測平台。 A method for combining optical imaging mechanism with an astigmatic detection system (ADS), a system for measurement of the height, angle and their variations of the surface of an object (US 7,247,827), is presented, so that the detection light spot and the microstructure on the surface of an object can be imaged with the optical imaging mechanism. With the help of the optical imaging mechanism and an actuator, the light spot of the ADS can be positioned onto different points on the surface of an object for measurements of the height, angle and their variations.

備註

本部(收文號1120028911)同意該校112年5月17日智財字第1121701408號函申請終止維護專利(中研院)

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