光學多軸線性位移測量系統及其方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097119533

專利證號

I 365279

專利獲證名稱

光學多軸線性位移測量系統及其方法

專利所屬機關 (申請機關)

中央研究院

獲證日期

2012/06/01

技術說明

本創新量測機制之光路架構最大之特色在於使用此單一光路即可同時針對待測物體X,Y與Z軸線 性位移作非接觸式之精密量測。此創新量測機制的重要應用為光罩精密定位系統或3度空間加 速規。另此系統最大之優點為可量測微小待測物及範圍之多軸線性移動。

備註

本部(收文號1100019638)同意該校110年4月1日智財字第11000502604號函申請終止維護專利(中研院)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉處

連絡電話

02-2787-2508

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