光波導結構及其製造方法OPTICAL WAVEGUIDE STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104123936

專利證號

I 584008

專利獲證名稱

光波導結構及其製造方法OPTICAL WAVEGUIDE STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2017/05/21

技術說明

主要是以新穎方式利用材料中的化學選擇性蝕刻來定義矽光子中不同層的波導製作，不僅可獨立設計與製作不同層的結構，亦可達低成本垂直式的整合；以此方式以波導共振耦合方式來做為測試樣品，材料為矽光子中整合III-V化合物異質波導，層跟層之間可用自我對焦方式，可精準做上下次微米波導的對位，使得光波導的共振式模式可顯示出來，結構尺寸可降低，經由不同長度波導的傳輸量測，已經證實出為小型高效率的光模轉換器，可大量應用於矽光子垂直式整合與製程中。 A new scheme of optical waveguide processing in Si photonics integration has been proposed and demonstrated. Based on the selective chemical wet etching between different materials from Si, the design and processing in different layer is mutually independent from each other, enabling the cost-effective vertical photonics integration. A resonant type of hybrid optical spot size converter has been used as the example. The self-alignment processing due to etching selectivity has been employed to integrate sub-micrometer Si waveguide and III-V waveguide. The precise alignment has been shown to lead to high efficient conversion efficiency.

備註

本部(收文號：第1080067117號)同意該校108年10月8日中產營字第1081401079號函通報專利終止維護案。

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址