二氧化鈦光學薄膜及其製備方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

104103801

專利證號

I 557442

專利獲證名稱

二氧化鈦光學薄膜及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

明新學校財團法人明新科技大學

獲證日期

2016/11/11

技術說明

1. 本發明係揭露一種具有低消光係數之二氧化鈦光學薄膜及其製造方法，係由摻雜微量氟化鎂的五氧化三鈦材料，使用電子槍通氧製鍍產生的二氧化鈦光學薄膜，所產生光學薄膜之消光係數較低，且對藍光的穿透率增加，但折射率改變不明顯。 2. 本發明所提供低消光係數之二氧化鈦光學薄膜，係以均勻參雜氟化鎂材料的五氧化三鈦材料之混合材料通氧蒸鍍於基材上，以於基材表面形成二氧化鈦光學薄膜，且氟化鎂材料之比例係介於混合材料之重量百分比1%至2.5%，以使該二氧化鈦光學薄膜於波長範圍介於400nm至440nm之消光係數係小於0.0137。 This present invention discloses a low extinction coefficient titanium oxide (TiO2) films and method of manufacture thereof. Using electron-beam evaporation with oxygen to deposit the magnesium fluoride-doped trititanium pentoxide materials and transfer to the TiO2 films. The TiO2 films have low extinction coefficient and improve transmittance of blue light and have no significant difference of refractive index compared with pure titanium oxide films.

備註

本會(收文號1110052810)同意該校111年8月16日明新(產)字第1110008207號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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